國家知識產權局信息顯示，耶拿分析儀器有限兩合公司申請一項名為“將孔徑光闌的孔徑的孔徑幾何形狀適配到光譜儀中的光束的光束路徑的方法”的專利，公開號CN121351332A，申請日期為2025年7月。

專利摘要顯示，本發明涉及將孔徑光闌的孔徑的孔徑幾何形狀適配到光譜儀中的光束的光束路徑的方法。本發明涉及一種用于將孔徑光闌（2）的孔徑的孔徑幾何形狀適配到光譜儀中的光束的光束路徑的方法，其中光譜儀包括孔徑光闌、多個光學組件和檢測器，其中該方法包括如下步驟：提供光學模型，其描述光束路徑并且包括光學組件以及它們的位置和定向，建立質量函數，其描述光束路徑的至少一個質量標準，其中質量函數基于光學模型計算質量量度，提供孔徑光闌的位置和孔徑在光學模型中的最大區域，其中，最大區域由多個子孔徑組成，借助于質量函數計算每個子孔徑的質量量度，以及基于子孔徑的質量量度來確定孔徑幾何形狀。

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